- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Endüstri Haberleri
Epitaksi ve ALD arasındaki fark nedir?
Epitaksi ve atomik katman birikimi (ALD) arasındaki temel fark, film büyüme mekanizmaları ve çalışma koşullarında yatmaktadır. Epitaksi, aynı veya benzer kristal yapıyı koruyarak, kristalin bir substrat üzerinde belirli bir yönelim ilişkisi ile kristalin ince bir filmin büyütülmesi işlemini ifade ed......
Devamını oku
CVD TAC Kaplama Nedir?
CVD TAC kaplama, bir alt tabaka (grafit) üzerinde yoğun ve dayanıklı bir kaplama oluşturmaya yönelik bir işlemdir. Bu yöntem, TaC'nin alt tabaka yüzeyine yüksek sıcaklıklarda biriktirilmesini içerir ve bunun sonucunda mükemmel termal stabiliteye ve kimyasal dirence sahip bir tantal karbür (TaC) kapl......
Devamını oku
SiC Tek Kristal Büyümesi için Termal Alan Tasarımı
Güç elektroniği, optoelektronik ve diğer alanlarda SiC malzemelerine olan talebin artmasıyla birlikte SiC tek kristal büyütme teknolojisinin geliştirilmesi, bilimsel ve teknolojik yeniliklerin önemli bir alanı haline gelecektir. SiC tek kristal büyütme ekipmanının temeli olan termal alan tasarımı, y......
Devamını oku
