CVD TAC Kaplama Nedir?

Hepimizin bildiği gibiTaC3880°C'ye kadar erime noktasına, yüksek mekanik mukavemete, sertliğe, termal şok direncine sahiptir; yüksek sıcaklıklarda amonyak, hidrojen ve silikon içeren buhara karşı iyi kimyasal inertlik ve termal stabilite.

CVD TAC kaplama, kimyasal buhar biriktirme (CVD)tantal karbür (TaC) kaplama, bir alt tabaka (genellikle grafit) üzerinde yüksek yoğunluklu ve dayanıklı bir kaplama oluşturmaya yönelik bir işlemdir. Bu yöntem, TaC'nin alt tabakanın yüzeyine yüksek sıcaklıklarda biriktirilmesini içerir ve bunun sonucunda mükemmel termal stabiliteye ve kimyasal dirence sahip bir kaplama elde edilir.

CVD TaC kaplamaların ana avantajları şunlardır:

Son derece yüksek termal stabilite: 2200°C'yi aşan sıcaklıklara dayanabilir.

Kimyasal direnç: Hidrojen, amonyak ve silikon buharı gibi sert kimyasallara etkili bir şekilde direnebilir.

Güçlü yapışma: Delaminasyon olmadan uzun süreli koruma sağlar.

Yüksek saflık: yabancı maddeleri en aza indirerek yarı iletken uygulamalar için idealdir.

Bu kaplamalar özellikle yarı iletken üretimi ve yüksek sıcaklıktaki endüstriyel işlemler gibi yüksek dayanıklılık ve zorlu koşullara dayanıklılık gerektiren ortamlar için uygundur.

Endüstriyel üretimde, TaC kaplama ile kaplanmış grafit (karbon-karbon kompozit) malzemelerin, geleneksel yüksek saflıkta grafit, pBN kaplama, SiC kaplama parçaları vb.'nin yerini alması çok muhtemeldir. Ayrıca, havacılık alanında TaC, büyük bir potansiyele sahiptir. yüksek sıcaklıkta oksidasyon önleyici ve aşınma önleyici kaplama olarak kullanılabilir ve geniş uygulama beklentilerine sahiptir. Bununla birlikte, grafit yüzeyinde yoğun, tekdüze, pullanma yapmayan TaC kaplamanın hazırlanmasını sağlamak ve endüstriyel seri üretimi teşvik etmek için hala birçok zorluk bulunmaktadır.

Bu süreçte kaplamanın koruma mekanizmasının keşfedilmesi, üretim sürecinde yenilik yapılması ve en üst düzeydeki yabancılarla rekabet edilmesi, üçüncü nesil yarı iletken kristal büyümesi ve epitaksi için çok önemlidir.