VeTek Semiconductor, ultra saf Silisyum Karbür Kaplama ürünlerinin üretiminde uzmanlaşmıştır; bu kaplamalar, saflaştırılmış grafit, seramik ve refrakter metal bileşenlere uygulanacak şekilde tasarlanmıştır.
Yüksek saflıktaki kaplamalarımızın öncelikli olarak yarı iletken ve elektronik endüstrilerinde kullanılması hedeflenmektedir. Plaka taşıyıcıları, tutucular ve ısıtma elemanları için koruyucu bir katman görevi görerek onları MOCVD ve EPI gibi işlemlerde karşılaşılan aşındırıcı ve reaktif ortamlardan korurlar. Bu işlemler, levha işleme ve cihaz imalatının ayrılmaz bir parçasıdır. Ayrıca kaplamalarımız, yüksek vakum, reaktif ve oksijen ortamlarıyla karşılaşılan vakum fırınları ve numune ısıtma uygulamaları için de çok uygundur.
VeTek Semiconductor olarak gelişmiş makine atölyesi yeteneklerimizle kapsamlı bir çözüm sunuyoruz. Bu, temel bileşenleri grafit, seramik veya refrakter metaller kullanarak üretmemize ve SiC veya TaC seramik kaplamaları kendi bünyemizde uygulamamıza olanak sağlar. Ayrıca müşteri tarafından tedarik edilen parçalar için kaplama hizmetleri de sunarak farklı ihtiyaçları karşılama esnekliği sağlıyoruz.
Silisyum Karbür Kaplama ürünlerimiz Si epitaksi, SiC epitaksi, MOCVD sistemi, RTP/RTA işlemi, aşındırma işlemi, ICP/PSS aşındırma işlemi, mavi ve yeşil LED, UV LED ve derin UV dahil olmak üzere çeşitli LED türlerinin işleminde yaygın olarak kullanılmaktadır. LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI ve benzerlerinin ekipmanlarına uyarlanan LED vb.
CVD SiC kaplamanın temel fiziksel özellikleri | |
Mülk | Tipik Değer |
Kristal Yapısı | FCC β fazı çok kristalli, esas olarak (111) yönelimli |
SiC kaplama Yoğunluk | 3,21 g/cm³ |
SiC kaplamaSertlik | 2500 Vickers sertliği (500g yük) |
Tahıl Boyutu | 2~10μm |
Kimyasal Saflık | %99,99995 |
Isı Kapasitesi | 640 J·kg-1·K-1 |
Süblimleşme Sıcaklığı | 2700°C |
Eğilme Dayanımı | 415 MPa RT 4 noktalı |
Young Modülü | 430 Gpa 4pt viraj, 1300°C |
Isı İletkenliği | 300W·m-1·K-1 |
Termal Genleşme (CTE) | 4,5×10-6K-1 |
Katı SiC Gaz Duş Başlığı, CVD prosesinde gazın tek biçimli hale getirilmesinde önemli bir rol oynar, böylece alt tabakanın eşit şekilde ısıtılmasını sağlar. VeTek Semiconductor, katı SiC cihazları alanında uzun yıllardan beri derin bir şekilde yer almaktadır ve müşterilerine özelleştirilmiş Katı SiC Gaz Duş Başlıkları sunabilmektedir. Gereksinimleriniz ne olursa olsun, sorgunuzu sabırsızlıkla bekliyoruz.
Devamını okuTalep GönderVeTek Semiconductor her zaman gelişmiş yarı iletken malzemelerin araştırma, geliştirme ve üretimine kendini adamıştır. Bugün VeTek Semiconductor, katı SiC kenar halkası ürünlerinde büyük ilerleme kaydetmiştir ve müşterilerine son derece özelleştirilmiş katı SiC kenar halkaları sunabilmektedir. Katı SiC kenar halkaları, elektrostatik bir ayna ile kullanıldığında daha iyi dağlama homojenliği ve hassas levha konumlandırma sağlayarak tutarlı ve güvenilir dağlama sonuçları sağlar. Soruşturmanızı ve birbirinizin uzun vadeli ortakları olmayı dört gözle bekliyorum.
Devamını okuTalep GönderKatı SiC Aşındırma Odaklama Halkası, levhanın sabitlenmesinde, plazmanın odaklanılmasında ve levha aşındırma homojenliğinin geliştirilmesinde rol oynayan levha aşındırma işleminin temel bileşenlerinden biridir. Çin'in önde gelen SiC Odaklama Halkası üreticisi olan VeTek Semiconductor, ileri teknolojiye ve olgun prosese sahiptir ve müşteri gereksinimlerine göre son müşterilerin ihtiyaçlarını tam olarak karşılayan Katı SiC Dağlama Odaklama Halkası üretmektedir. Soruşturmanızı ve birbirimizin uzun vadeli ortakları olmayı sabırsızlıkla bekliyoruz.
Devamını okuTalep Gönder