Vetek yarı iletken Fiziksel Buhar Biriktirme (PVD), yüzey işleme ve ince film hazırlamada yaygın olarak kullanılan ileri bir proses teknolojisidir. PVD teknolojisi, malzemeleri doğrudan katı veya sıvıdan gaza dönüştürmek ve hedef alt tabakanın yüzeyinde ince bir film oluşturmak için fiziksel yöntemler kullanır. Bu teknoloji, yüksek hassasiyet, yüksek homojenlik ve güçlü yapışma avantajlarına sahiptir ve yarı iletkenlerde, optik cihazlarda, alet kaplamalarında ve dekoratif kaplamalarda yaygın olarak kullanılmaktadır. Bizimle tartışmaya hoş geldiniz!
Vetek Semiconductor, Fiziksel Buhar Biriktirme Sürecinde gelişmiş yarı iletken malzemeler sağlayan bir Çin üreticisidir.SiC kaplı pota, camsı karbon potası,SiC kaplama grafit ısıtıcılar,Elektron Işını Tabancası Buharlaştırma Potaları.
PVD işleminin temel prensipleri
Fiziksel Buhar Biriktirme işlemleri genellikle buharlaştırma, püskürtme ve iyon kaplama gibi çeşitli spesifik yöntemleri içerir. Kullanılan yöntem ne olursa olsun, Fiziksel Buhar Biriktirmenin temel prensibi, malzemeyi kaynaktan yüksek sıcaklıkta ısıtma veya iyon bombardımanı yoluyla buharlaştırmaktır. Buharlaşan malzeme, vakumlu veya düşük basınçlı bir ortamda atom veya molekül şeklinde hareket eder ve alt tabakanın yüzeyinde ince bir film halinde yoğunlaşır. Bu işlem esas olarak fiziksel yollarla gerçekleştirilir, böylece kimyasal reaksiyonların malzemenin saflığı üzerindeki etkisi önlenir.
Fiziksel Buhar Biriktirme teknolojisinin avantajları
Yüksek saflık ve yüksek yoğunluk: PVD biriktirilmiş filmler genellikle yüksek saflığa ve yoğunluğa sahiptir; bu, aşınma direnci, korozyon direnci ve sertlik gibi kaplamanın performansını önemli ölçüde artırabilir.
Güçlü film yapışması: PVD işlemi, alt tabaka üzerinde güçlü yapışma özelliğine sahip bir film oluşturabilir, bu da filmin kullanım sırasında kolayca soyulmasını önleyerek ürünün servis ömrünü uzatır.
Geniş malzeme seçimi yelpazesi: PVD teknolojisi metaller, seramikler ve alaşımlar dahil olmak üzere çeşitli malzemelere uygulanabilir ve iletken, yalıtkan, ısıya dayanıklı ve oksidasyon önleyici kaplamalar gibi çeşitli fonksiyonel kaplamalar hazırlayabilir.
Çevre koruma ve sürdürülebilirlik: Kimyasal buhar biriktirme (CVD) gibi işlemlerle karşılaştırıldığında, Fiziksel Buhar Biriktirme (PVD) işlemi daha çevre dostudur, zararlı gazların oluşumunu içermez ve çevre kirliliğini azaltır.
PVD teknolojisinin uygulanması
Yarı iletken endüstrisi: In semiconductor manufacturing, Physical Vapor Deposition is often used in the preparation of thin film electrodes, diffusion barriers and metal interconnects to ensure that the components have good conductivity and stability.
Optik cihazlar: Fiziksel Buhar Biriktirme teknolojisi, aynalar ve lensler için yansıma önleyici kaplamalar gibi optik kaplamalarda ve optik cihazların performansını artırmak için optik filtrelerin üretiminde yaygın olarak kullanılmaktadır.