Tantal Karbür Yüzük

VeTek Semiconductor'ın Tantal Karbür (TaC) Halkası, çekirdek malzemesi olarak yüksek kaliteli grafit kullanır ve benzersiz yapısı sayesinde, kristal büyütme fırınının zorlu koşulları altında şeklini ve mekanik özelliklerini koruyabilir. Grafitin yüksek ısı direnci, ona tüm yüzey boyunca mükemmel stabilite sağlar.kristal büyüme süreci.

TaC Halkasının dış katmanı bir kaplama ile kaplanmıştır.tantal karbür kaplamaSon derece yüksek sertliği, 3880°C'nin üzerindeki erime noktası ve kimyasal korozyona karşı mükemmel direnci ile bilinen, bu da onu özellikle yüksek sıcaklıktaki çalışma ortamları için uygun hale getiren bir malzemedir. Tantal karbür kaplama, şiddetli kimyasal reaksiyonları etkili bir şekilde önlemek ve grafit çekirdeğin yüksek sıcaklıktaki fırın gazları tarafından aşınmamasını sağlamak için güçlü bir bariyer sağlar.

Sırasındasilisyum karbür (SiC) kristal büyümesi, istikrarlı ve tekdüze büyüme koşulları, yüksek kaliteli kristaller sağlamanın anahtarıdır. Tantal Karbür Kaplama Halkası, gaz akışının düzenlenmesinde ve fırın içindeki sıcaklık dağılımının optimize edilmesinde hayati bir rol oynar. Bir gaz kılavuz halkası olarak TaC Halkası, ısı enerjisinin ve reaksiyon gazlarının eşit dağılımını sağlayarak SiC kristallerinin eşit şekilde büyümesini ve stabilitesini sağlar.

Ek olarak, grafitin yüksek termal iletkenliği ile Tantal Karbür Kaplamalı'nın koruyucu etkisi bir araya gelerek TaC Kılavuz Halkasının SiC kristal büyümesi için gereken yüksek sıcaklıktaki ortamda stabil şekilde çalışmasını sağlar. Yapısal mukavemeti ve boyutsal stabilitesi, üretilen kristallerin kalitesini doğrudan etkileyen fırındaki koşulların korunması açısından çok önemlidir. TaC Kaplama Halkası, fırın içindeki termal dalgalanmaları ve kimyasal reaksiyonları azaltarak, yüksek performanslı yarı iletken uygulamalar için mükemmel elektronik özelliklere sahip kristallerin üretilmesine yardımcı olur.

VeTek Semiconductor'ın Tantal Karbür Halkası,silisyum karbür kristal büyütme fırınlarıve mükemmel dayanıklılığı, termal kararlılığı ve kimyasal direnciyle öne çıkıyor. Grafit çekirdek ve TaC kaplamanın benzersiz kombinasyonu, zorlu koşullar altında yapısal bütünlüğü ve işlevselliği korumasını sağlar. TaC Kaplama Halkası, fırın içindeki sıcaklığı ve gaz akışını hassas bir şekilde kontrol ederek, son teknoloji yarı iletken bileşen üretimi için kritik olan yüksek kaliteli SiC kristallerinin üretimi için gerekli koşulları sağlar.

Mikroskobik bir kesit üzerinde tantal karbür (TaC) kaplama：