Tantal Karbür Kaplamalı Ayna

VeTek Semiconductor, Çin'in önde gelen Tantal Karbür Kaplamalı Ayna üreticisi ve yenilikçisidir. Uzun yıllardır TaC kaplama konusunda uzmanız. Ürünlerimiz yüksek saflığa ve 2000°C'ye kadar yüksek sıcaklık direncine sahiptir. Uzun vadeli çözümünüz olmayı sabırsızlıkla bekliyoruz. Çin'deki ortağı.

Talep Gönder

Ürün Açıklaması

VeTek Yarı İletken, rekabetçi fiyatlarla yüksek kaliteli Tantal Karbür Kaplamalı Ayna, SiC kaplama parçaları tedarik etmektedir. Bize hoş geldiniz. VeTek Yarı İletken Tantal Karbür Kaplamalı Ayna, AIXTRON G10 MOCVD sistemi için özel olarak tasarlanmıştır. Bu aksesuar, yarı iletken üretiminde verimliliği ve kaliteyi artırarak olağanüstü performans ve güvenilirlik sağlar.

Yüksek kaliteli malzemelerden üretilen ve hassasiyetle üretilen ayna, CVD tantal karbür (TaC) ile kaplanmış bir grafit alt tabakaya sahiptir. Bu kaplama mükemmel termal stabilite, yüksek saflık ve yüksek sıcaklıklara dayanıklılık sağlar. MOCVD proseslerinin zorlu koşullarında güvenilir performans sağlar.

Ayna, farklı yarı iletken plaka boyutlarına uyacak şekilde özelleştirilebilir, bu da onu çeşitli üretim gereksinimlerine uygun hale getirir. Sağlam yapısı, levha taşıyıcıları ve tutucularla ilgili arıza sürelerini ve bakım maliyetlerini en aza indirir.

VeTek Yarı İletken Tantal Karbür Kaplamalı Ayna ile AIXTRON G10 MOCVD sistemi, yarı iletken üretiminde daha yüksek verimlilik ve üstün sonuçlar elde eder. Olağanüstü termal stabilitesi, farklı levha boyutlarıyla uyumluluğu ve güvenilir performansı, onu zorlu MOCVD ortamında üretim verimliliğini optimize etmek ve olağanüstü sonuçlar elde etmek için önemli bir araç haline getiriyor.

Tantal Karbür Kaplamalı Aynanın ürün parametresi

TaC kaplamanın fiziksel özellikleri
Yoğunluk	14,3 (g/cm³)
Spesifik emisyon	0.3
Termal genleşme katsayısı	6,3 10-6/K
Sertlik (HK)	2000 Hong Kong
Rezistans	1×10-5Ohm*cm
Termal kararlılık	<2500°C
Grafit boyutu değişiklikleri	-10~-20um
Kaplama kalınlığı	≥20um tipik değer (35um±10um)