Ön Isıtma Halkası

VeTek Semiconductor, Çin'deki SiC kaplama üreticisinin yenilikçisidir. VeTek Semiconductor tarafından sağlanan Ön Isıtma Halkası, Epitaksi işlemi için tasarlanmıştır. Hammadde olarak tek tip silisyum karbür kaplama ve üst düzey grafit malzeme, tutarlı bir biriktirme sağlar ve epitaksiyel katmanın kalitesini ve tekdüzeliğini artırır. Sizinle uzun vadeli işbirliği kurmayı dört gözle bekliyoruz.

Talep Gönder

Ürün Açıklaması

Ön Isıtma Halkası, yarı iletken üretiminde epitaksiyel (EPI) işlem için özel olarak tasarlanmış önemli bir ekipmandır. EPI işleminden önce levhaları önceden ısıtmak için kullanılır ve epitaksiyel büyüme boyunca sıcaklık stabilitesi ve tekdüzelik sağlar.

VeTek Semiconductor tarafından üretilen EPI Ön Isıtma Halkamız birçok önemli özellik ve avantaj sunar. İlk olarak, levha yüzeyine hızlı ve düzgün ısı transferine izin veren yüksek ısı iletkenliğine sahip malzemeler kullanılarak yapılmıştır. Bu, sıcak noktaların ve sıcaklık değişimlerinin oluşumunu önleyerek tutarlı bir birikim sağlar ve epitaksiyel katmanın kalitesini ve tekdüzeliğini artırır.

Ek olarak EPI Ön Isıtma Halkamız, ön ısıtma sıcaklığının hassas ve tutarlı kontrolünü sağlayan gelişmiş bir sıcaklık kontrol sistemi ile donatılmıştır. Bu kontrol düzeyi, EPI işlemi sırasında kristal büyümesi, malzeme birikmesi ve arayüzey reaksiyonları gibi önemli adımların doğruluğunu ve tekrarlanabilirliğini artırır.

Dayanıklılık ve güvenilirlik, ürün tasarımımızın temel unsurlarıdır. EPI Ön Isıtma Halkası, yüksek sıcaklıklara ve çalışma basınçlarına dayanacak, uzun süreler boyunca stabiliteyi ve performansı koruyacak şekilde üretilmiştir. Bu tasarım yaklaşımı, bakım ve değiştirme maliyetlerini azaltarak uzun vadeli güvenilirlik ve operasyonel verimlilik sağlar.

EPI Ön Isıtma Halkasının kurulumu ve çalıştırılması, yaygın EPI ekipmanlarıyla uyumlu olduğundan basittir. Kolaylığı ve operasyonel verimliliği artıran, kullanıcı dostu bir plaka yerleştirme ve alma mekanizmasına sahiptir.

VeTek Semiconductor'da ayrıca özel müşteri gereksinimlerini karşılamak için özelleştirme hizmetleri de sunuyoruz. Bu, EPI Ön Isıtma Halkasının boyutunun, şeklinin ve sıcaklık aralığının benzersiz üretim ihtiyaçlarına göre uyarlanmasını içerir.

Epitaksiyel büyüme ve yarı iletken cihaz üretiminde yer alan araştırmacılar ve üreticiler için VeTek Semiconductor'ın EPI Ön Isıtma Halkası olağanüstü performans ve güvenilir destek sağlar. Yüksek kaliteli epitaksiyel büyümeye ulaşmada ve verimli yarı iletken cihaz üretim süreçlerini kolaylaştırmada kritik bir araç olarak hizmet eder.

CVD SiC kaplamanın temel fiziksel özellikleri:

CVD SiC kaplamanın temel fiziksel özellikleri
Mülk	Tipik değer
Kristal yapı	FCC β fazı çok kristalli, esas olarak (111) yönelimli
Yoğunluk	3,21 g/cm³
Sertlik	2500 Vickers sertliği (500g yük)
Tane büyüklüğü	2~10μm
Kimyasal Saflık	%99,99995
Isı kapasitesi	640 J·kg-1·K-1
Süblimleşme Sıcaklığı	2700°C
Bükülme mukavemeti	415 MPa RT 4 noktalı
Gencin modülü	430 Gpa 4pt viraj, 1300°C
Termal iletkenlik	300W·m-1·K-1
Termal Genleşme (CTE)	4,5×10-6K-1