CVD TaC Kaplama Taşıyıcı

VeTek Semiconductor, profesyonel bir lider Çin CVD TaC Kaplama taşıyıcısı, EPITAXY SUSCEPTOR, TaC Kaplamalı Grafit Susceptor üreticisidir.

Vetek Semiconductor'ın CVD TaC kaplama taşıyıcısı, sürekli süreç ve malzeme inovasyon araştırmaları sayesinde, epitaksiyel süreçte temel olarak aşağıdaki yönleri içeren çok kritik bir rol oynar:

Yüzey koruması: CVD TaC kaplama taşıyıcısı mükemmel kimyasal stabilite ve termal stabilite sağlar, yüksek sıcaklığın ve aşındırıcı gazların alt tabakayı ve reaktörün iç duvarını aşındırmasını etkili bir şekilde önleyerek proses ortamının saflığını ve stabilitesini sağlar.

Termal tekdüzelik: CVD TaC kaplama taşıyıcısının yüksek termal iletkenliği ile birleştiğinde, reaktör içindeki sıcaklık dağılımının tekdüzeliğini sağlar, epitaksiyel katmanın kristal kalitesini ve kalınlık tekdüzeliğini optimize eder ve son ürünün performans tutarlılığını artırır.

Parçacık kirliliği kontrolü: CVD TaC kaplı taşıyıcılar son derece düşük partikül üretim hızlarına sahip olduğundan, pürüzsüz yüzey özellikleri partikül kontaminasyonu riskini önemli ölçüde azaltır, böylece epitaksiyel büyüme sırasında saflığı ve verimi artırır.

Uzatılmış ekipman ömrü: CVD TaC kaplama taşıyıcısının mükemmel aşınma direnci ve korozyon direnciyle birleştiğinde reaksiyon odası bileşenlerinin hizmet ömrünü önemli ölçüde uzatır, ekipmanın arıza süresini ve bakım maliyetlerini azaltır ve üretim verimliliğini artırır.

Yukarıdaki özellikleri bir araya getiren VeTek Semiconductor'ın CVD TaC Kaplama taşıyıcısı, epitaksiyel büyüme sürecinde yalnızca sürecin güvenilirliğini ve ürünün kalitesini arttırmakla kalmaz, aynı zamanda yarı iletken üretimi için uygun maliyetli bir çözüm sunar.

CVD TaC Kaplama Taşıyıcısının fiziksel özellikleri:

CVD SiC Kaplama Üretim Atölyesi:

Yarı iletken çip epitaksi endüstri zincirine genel bakış: