CVD SiC Odak Halkası

VeTek Semiconductor, yarı iletken endüstrisi için yüksek performanslı, yüksek güvenilirliğe sahip ürün çözümleri sunmaya kendini adamış, CVD SiC odak halkalarının lider yerli üreticisi ve tedarikçisidir. VeTek Semiconductor'ın CVD SiC odak halkaları, gelişmiş kimyasal buhar biriktirme (CVD) teknolojisini kullanır, mükemmel yüksek sıcaklık direncine, korozyon direncine ve termal iletkenliğe sahiptir ve yarı iletken litografi işlemlerinde yaygın olarak kullanılır. Sorularınız her zaman memnuniyetle karşılanır.

Talep Gönder

Ürün Açıklaması

Modern elektronik cihazların ve bilgi teknolojisinin temeli olan yarı iletken teknolojisi, günümüz toplumunun vazgeçilmez bir parçası haline gelmiştir. Akıllı telefonlardan bilgisayarlara, iletişim ekipmanlarına, tıbbi ekipmanlara ve güneş pillerine kadar neredeyse tüm modern teknolojiler, yarı iletken cihazların üretimi ve uygulamasına dayanmaktadır.

Elektronik cihazların fonksiyonel entegrasyonu ve performansına yönelik gereksinimler artmaya devam ettikçe, yarı iletken proses teknolojisi de sürekli olarak gelişiyor ve gelişiyor. Yarı iletken teknolojisindeki temel bağlantı olan aşındırma işlemi, cihazın yapısını ve özelliklerini doğrudan belirler.

Aşındırma işlemi, istenen yapıyı ve devre modelini oluşturmak için yarı iletkenin yüzeyindeki malzemeyi doğru bir şekilde çıkarmak veya ayarlamak için kullanılır. Bu yapılar yarı iletken cihazların performansını ve işlevselliğini belirler. Aşındırma işlemi, yüksek yoğunluklu, yüksek performanslı entegre devrelerin (IC'ler) üretiminin temeli olan nanometre düzeyinde hassasiyete ulaşabilir.

CVD SiC Odak Halkası, kuru aşındırmada temel bir bileşendir ve esas olarak levha yüzeyinde daha yüksek yoğunluk ve enerjiye sahip olmasını sağlamak için plazmayı odaklamak için kullanılır. Gazı eşit olarak dağıtma işlevi vardır. VeTek Semiconductor, CVD işlemi yoluyla SiC'yi katman katman büyütür ve sonunda CVD SiC Odak Halkasını elde eder. Hazırlanan CVD SiC Odak Halkası, aşındırma işleminin gereksinimlerini mükemmel şekilde karşılayabilir.

CVD SiC Focus Ring working diagram

CVD SiC Odak Halkası mekanik özellikler, kimyasal özellikler, termal iletkenlik, yüksek sıcaklık direnci, iyon aşındırma direnci vb. açısından mükemmeldir.

● Yüksek yoğunluk gravür hacmini azaltır

● Yüksek bant aralığı ve mükemmel yalıtım

● Yüksek ısı iletkenliği, düşük genleşme katsayısı ve ısı şokuna dayanıklılık

● Yüksek elastikiyet ve iyi mekanik darbe dayanımı

● Yüksek sertlik, aşınma direnci ve korozyon direnci

VeTek Semiconductor, Çin'de lider CVD SiC Odak Halkası işleme kapasitesine sahiptir. Bu arada VeTek Semiconductor'ın olgun teknik ekibi ve satış ekibi, müşterilerimize en uygun odak halkası ürünlerini sunmamıza yardımcı oluyor. VeTek yarı iletkeni seçmek, kendini dünyanın sınırlarını zorlamaya adamış bir şirketle ortaklık yapmak anlamına gelir.CVD silisyum karbür yenilik.

Kaliteye, performansa ve müşteri memnuniyetine güçlü bir vurgu yaparak, yarı iletken endüstrisinin zorlu taleplerini yalnızca karşılamakla kalmayıp aşan ürünler sunuyoruz. Gelişmiş CVD silisyum Karbür çözümlerimizle operasyonlarınızda daha fazla verimlilik, güvenilirlik ve başarı elde etmenize yardımcı olalım.

CVD SIC FİLMİNİN SEM VERİLERİ

SEM DATA OF CVD SIC COATING FILM

CVD SiC kaplamanın temel fiziksel özellikleri

CVD SiC kaplamanın temel fiziksel özellikleri
Mülk	Tipik Değer
Kristal Yapısı	FCC β fazı çok kristalli, esas olarak (111) yönelimli
SiC kaplama Yoğunluk	3,21 g/cm³
SiC kaplama Sertlik	2500 Vickers sertliği (500g yük)
Tahıl Boyutu	2~10μm
Kimyasal Saflık	%99,99995
Isı Kapasitesi	640 J·kg^-1·K^-1
Süblimleşme Sıcaklığı	2700°C
Eğilme Dayanımı	415 MPa RT 4 noktalı
Young Modülü	430 Gpa 4pt viraj, 1300°C
Isı İletkenliği	300W·m^-1·K^-1
Termal Genleşme (CTE)	4,5×10^-6K^-1