CVD SiC Kaplama Bölmesi

Vetek Semiconductor'ın CVD SiC Kaplama Bölmesi esas olarak Si Epitaxy'de kullanılır. Genellikle silikon uzatma varilleri ile birlikte kullanılır. Yarı iletken üretiminde hava akışının eşit dağılımını büyük ölçüde artıran CVD SiC Kaplama Bölmesinin benzersiz yüksek sıcaklığını ve stabilitesini birleştirir. Ürünlerimizin size İleri Teknoloji ve Yüksek Kaliteli Ürün Çözümleri sunabileceğine inanıyoruz.

Talep Gönder

Ürün Açıklaması

Profesyonel üretici olarak size yüksek kalite sunmak istiyoruzCVD SiC Kaplama Bölmesi.

Sürekli süreç ve malzeme inovasyonu geliştirme yoluyla,Vetek Yarıiletken'SCVD SiC Kaplama BölmesiYüksek sıcaklık stabilitesi, korozyon direnci, yüksek sertlik ve aşınma direnci gibi benzersiz özelliklere sahiptir. Bu benzersiz özellikler, CVD SiC Kaplama Bölmesinin epitaksiyel süreçte önemli bir rol oynadığını belirler ve rolü temel olarak aşağıdaki hususları içerir:

Hava akışının düzgün dağılımı: CVD SiC Kaplama Bölmesinin ustaca tasarımı, epitaksi işlemi sırasında hava akışının eşit dağılımını sağlayabilir. Düzgün hava akışı, malzemelerin eşit şekilde büyümesi ve kalitesinin iyileştirilmesi için gereklidir. Ürün, hava akışını etkili bir şekilde yönlendirebilir, aşırı veya zayıf yerel hava akışını önleyebilir ve epitaksiyel malzemelerin tekdüzeliğini sağlayabilir.

Epitaksi sürecini kontrol edin: CVD SiC Kaplama Bölmesinin konumu ve tasarımı, epitaksi işlemi sırasında hava akışının akış yönünü ve hızını doğru bir şekilde kontrol edebilir. Düzenini ve şeklini ayarlayarak hava akışının hassas kontrolü elde edilebilir, böylece epitaksi koşulları optimize edilir ve epitaksi verimi ve kalitesi iyileştirilir.

Malzeme kaybını azaltın: CVD SiC Kaplama Bölmesinin makul şekilde ayarlanması, epitaksi işlemi sırasında malzeme kaybını azaltabilir. Düzgün hava akışı dağıtımı, eşit olmayan ısınmanın neden olduğu termal stresi azaltabilir, malzemenin kırılması ve hasar görmesi riskini azaltabilir ve epitaksiyel malzemelerin servis ömrünü uzatabilir.

Epitaksi verimliliğini artırın: CVD SiC Kaplama Bölmesinin tasarımı, hava akışı iletim verimliliğini optimize edebilir ve epitaksi işleminin verimliliğini ve stabilitesini artırabilir. Bu ürünün kullanımıyla epitaksiyel ekipmanın fonksiyonları en üst düzeye çıkarılabilir, üretim verimliliği artırılabilir ve enerji tüketimi azaltılabilir.

Temel fiziksel özellikleriCVD SiC Kaplama Bölmesi：